အစိတ်အပိုင်းများစွာကိုစွမ်းအင်လျှော့ချရေးဂီယာအသစ်များနှင့်မော်တော်ကားဂီယာများစီမံကိန်းတွင် ဂီယာကြိတ်ပြီးနောက် shot peening လိုအပ်ပြီး ၎င်းသည် သွားမျက်နှာပြင်အရည်အသွေးကို ယိုယွင်းစေပြီး စနစ်၏ NVH စွမ်းဆောင်ရည်ကိုပင် ထိခိုက်စေပါသည်။ ဤစာတမ်းတွင် shot peening လုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေအမျိုးမျိုးနှင့် shot peening မတိုင်မီနှင့် ပြီးနောက် အစိတ်အပိုင်းအမျိုးမျိုး၏ သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုကို လေ့လာထားသည်။ ရလဒ်များအရ shot peening သည် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုကို တိုးစေမည်ဖြစ်ပြီး အစိတ်အပိုင်းများ၏ ဝိသေသလက္ခဏာများ၊ shot peening လုပ်ငန်းစဉ် ကန့်သတ်ချက်များနှင့် အခြားအချက်များကြောင့် သက်ရောက်မှုရှိသည်။ လက်ရှိ အသုတ်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေများအရ shot peening ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု အများဆုံးမှာ shot peening မတိုင်မီထက် ၃.၁ ဆ ပိုများသည်။ NVH စွမ်းဆောင်ရည်အပေါ် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု၏ သြဇာလွှမ်းမိုးမှုကို ဆွေးနွေးထားပြီး shot peening ပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုကို မြှင့်တင်ရန် အစီအမံများကို အဆိုပြုထားသည်။

အထက်ပါနောက်ခံအခြေအနေအောက်တွင်၊ ဤစာတမ်းသည် အောက်ပါရှုထောင့်သုံးရပ်မှ ဆွေးနွေးထားသည်-

သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုအပေါ် shot peening လုပ်ငန်းစဉ် ကန့်သတ်ချက်များ၏ သြဇာလွှမ်းမိုးမှု။

လက်ရှိ အသုတ်ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေများအောက်တွင် သွားမျက်နှာပြင် ကြမ်းတမ်းမှုပေါ်တွင် shot peening ၏ ချဲ့ထွင်မှုဒီဂရီ။

သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု မြင့်တက်လာခြင်းက NVH စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် shot peening ပြုလုပ်ပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန် ဆောင်ရွက်ချက်များအပေါ် သက်ရောက်မှု။

Shot peening ဆိုသည်မှာ မာကျောမှုမြင့်မားပြီး မြန်နှုန်းမြင့် ရွေ့လျားမှုရှိသော သေးငယ်သည့် ကျည်ဆန်များစွာသည် အစိတ်အပိုင်းများ၏ မျက်နှာပြင်ကို ထိမှန်သည့် လုပ်ငန်းစဉ်ကို ရည်ညွှန်းသည်။ ကျည်ဆန်၏ မြန်နှုန်းမြင့် သက်ရောက်မှုအောက်တွင် အစိတ်အပိုင်း၏ မျက်နှာပြင်သည် အပေါက်များ ဖြစ်ပေါ်စေပြီး ပလတ်စတစ်ပုံပျက်ခြင်း ဖြစ်ပေါ်လိမ့်မည်။ အပေါက်များပတ်လည်ရှိ အဖွဲ့အစည်းများသည် ဤပုံပျက်ခြင်းကို ခုခံပြီး ကျန်ရှိနေသော ဖိသိပ်ဖိအားကို ဖြစ်ပေါ်စေလိမ့်မည်။ အပေါက်များစွာ ထပ်နေခြင်းသည် အစိတ်အပိုင်း၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် တစ်ပြေးညီ ကျန်ရှိနေသော ဖိသိပ်ဖိအားအလွှာကို ဖွဲ့စည်းပေးသောကြောင့် အစိတ်အပိုင်း၏ ပင်ပန်းနွမ်းနယ်မှု ခံနိုင်ရည်ကို တိုးတက်စေသည်။ shot ဖြင့် မြန်နှုန်းမြင့် ရရှိသည့် နည်းလမ်းအရ shot peening ကို ယေဘုယျအားဖြင့် ပုံ ၁ တွင် ပြထားသည့်အတိုင်း compressed air shot peening နှင့် centrifugal shot peening အဖြစ် ခွဲခြားထားသည်။

ဖိသိပ်ထားသောလေဖြင့် ပစ်ခတ်ခြင်း peening သည် ဖိသိပ်ထားသောလေကို သေနတ်မှ ပစ်ခတ်ခြင်းကို ဖြန်းရန်အတွက် စွမ်းအားအဖြစ်အသုံးပြုသည်။ Centrifugal shot blasting သည် impeller ကို မြန်နှုန်းမြင့်ဖြင့် လည်ပတ်စေရန် မောင်းနှင်ရန် မော်တာကို အသုံးပြုသည်။ shot peening ၏ အဓိကလုပ်ငန်းစဉ် parameters များတွင် saturation strength၊ coverage နှင့် shot peening medium ဂုဏ်သတ္တိများ (ပစ္စည်း၊ အရွယ်အစား၊ ပုံသဏ္ဍာန်၊ မာကျောမှု) တို့ ပါဝင်သည်။ Saturation strength သည် shot peening strength ကို ဖော်ပြရန် parameter တစ်ခုဖြစ်ပြီး ၎င်းကို arc height (ဆိုလိုသည်မှာ shot peening ပြီးနောက် Almen စမ်းသပ်အပိုင်း၏ ကွေးညွှတ်မှုဒီဂရီ) ဖြင့် ဖော်ပြသည်။ Coverage rate သည် shot peening ပြီးနောက် pit ဖြင့် ဖုံးအုပ်ထားသော ဧရိယာနှင့် shot peening ဧရိယာ၏ စုစုပေါင်းဧရိယာအချိုးကို ရည်ညွှန်းသည်။ အသုံးများသော shot peening မီဒီယာများတွင် သံမဏိဝါယာကြိုးဖြတ်တောက်ခြင်း shot၊ သွန်းသံမဏိ shot၊ ကြွေထည် shot၊ ဖန် shot စသည်တို့ ပါဝင်သည်။ shot peening မီဒီယာ၏ အရွယ်အစား၊ ပုံသဏ္ဍာန်နှင့် မာကျောမှုသည် အဆင့်အမျိုးမျိုးရှိသည်။ ဂီယာဂီယာရိုး အစိတ်အပိုင်းများအတွက် အထွေထွေလုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ချက်များကို ဇယား ၁ တွင် ပြသထားသည်။

စမ်းသပ်အပိုင်းကတော့ hybrid project ရဲ့ 1/6 ရှိတဲ့ အလယ်အလတ် shaft gear ပါ။ ဂီယာဖွဲ့စည်းပုံကို ပုံ ၂ မှာ ပြထားပါတယ်။ ကြိတ်ခွဲပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင် microstructure က Grade 2 ဖြစ်ပြီး မျက်နှာပြင်မာကျောမှုက 710HV30 ဖြစ်ပြီး ထိရောက်တဲ့ hardening layer depth က 0.65mm ရှိပြီး အားလုံးက နည်းပညာဆိုင်ရာ လိုအပ်ချက်တွေနဲ့ ကိုက်ညီပါတယ်။ shot peening မလုပ်ခင် သွားမျက်နှာပြင် ကြမ်းတမ်းမှုကို ဇယား ၃ မှာ ပြထားပြီး သွား profile ရဲ့ တိကျမှုကို ဇယား ၄ မှာ ပြထားပါတယ်။ shot peening မလုပ်ခင် သွားမျက်နှာပြင် ကြမ်းတမ်းမှုက ကောင်းမွန်ပြီး သွား profile curve က ချောမွေ့တာကို မြင်နိုင်ပါတယ်။

စမ်းသပ်အစီအစဉ်နှင့် စမ်းသပ်ကန့်သတ်ချက်များ

စမ်းသပ်မှုတွင် ဖိသိပ်ထားသောလေဖြင့် ပစ်ခတ်အလွှာပြုလုပ်သည့်စက်ကို အသုံးပြုထားသည်။ စမ်းသပ်မှုအခြေအနေများကြောင့် ပစ်ခတ်အလွှာပြုလုပ်သည့်အလတ်စားဂုဏ်သတ္တိများ (ပစ္စည်း၊ အရွယ်အစား၊ မာကျောမှု) ၏သက်ရောက်မှုကို အတည်ပြုရန် မဖြစ်နိုင်ပါ။ ထို့ကြောင့် ပစ်ခတ်အလွှာပြုလုပ်သည့်အလတ်စား၏ဂုဏ်သတ္တိများသည် စမ်းသပ်မှုတွင် တသမတ်တည်းရှိသည်။ ပစ်ခတ်အလွှာပြုလုပ်ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုအပေါ် saturation strength နှင့် coverage ၏သက်ရောက်မှုကိုသာ အတည်ပြုသည်။ စမ်းသပ်မှုပုံစံအတွက် ဇယား ၂ ကိုကြည့်ပါ။ စမ်းသပ်မှု parameters များ၏ သီးခြားဆုံးဖြတ်ချက်လုပ်ငန်းစဉ်မှာ အောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည်- ဖိအားပေးထားသောလေဖိအား၊ သံမဏိပစ်ခတ်စီးဆင်းမှု၊ nozzle ရွေ့လျားမှုအမြန်နှုန်း၊ အစိတ်အပိုင်းများမှ nozzle အကွာအဝေးနှင့် အခြားပစ္စည်းကိရိယာများ၏ parameters များကို လော့ခ်ချရန်အတွက် saturation point ကိုဆုံးဖြတ်ရန် Almen coupon စမ်းသပ်မှုမှတစ်ဆင့် saturation curve (ပုံ ၃) ကိုဆွဲပါ။

စမ်းသပ်မှုရလဒ်

shot peening ပြုလုပ်ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုဒေတာကို ဇယား ၃ တွင်ပြသထားပြီး သွားပရိုဖိုင်တိကျမှုကို ဇယား ၄ တွင်ပြသထားသည်။ shot peening အခြေအနေလေးခုအောက်တွင် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုတိုးလာပြီး shot peening ပြုလုပ်ပြီးနောက် သွားပရိုဖိုင်ကွေးသည် ခွက်ပြီးခုံးဖြစ်လာသည်ကို မြင်နိုင်သည်။ ဖြန်းပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုနှင့် ဖြန်းခြင်းမပြုမီ ကြမ်းတမ်းမှုအချိုးကို ကြမ်းတမ်းမှုချဲ့ထွင်မှုကို ဖော်ပြရန်အသုံးပြုသည် (ဇယား ၃)။ လုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေလေးခုအောက်တွင် ကြမ်းတမ်းမှုချဲ့ထွင်မှုသည် ကွဲပြားကြောင်း မြင်နိုင်သည်။

Shot Peening ဖြင့် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု၏ ချဲ့ထွင်မှုကို အသုတ်လိုက်ခြေရာခံခြင်း

အပိုင်း ၃ ရှိ စမ်းသပ်မှုရလဒ်များအရ သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုသည် မတူညီသောလုပ်ငန်းစဉ်များဖြင့် shot peening ပြုလုပ်ပြီးနောက် အတိုင်းအတာအမျိုးမျိုးဖြင့် တိုးလာကြောင်း ပြသထားသည်။ သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုပေါ်တွင် shot peening ၏ ချဲ့ထွင်မှုကို အပြည့်အဝနားလည်ရန်နှင့် နမူနာအရေအတွက် တိုးမြှင့်ရန်အတွက်၊ အသုတ်လိုက်ထုတ်လုပ်မှု shot peening လုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေများအောက်တွင် shot peening မလုပ်မီနှင့် လုပ်ပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုကို ခြေရာခံရန် ပစ္စည်း ၅ ခု၊ အမျိုးအစား ၅ မျိုးနှင့် စုစုပေါင်းအစိတ်အပိုင်း ၄၄ ခုကို ရွေးချယ်ခဲ့သည်။ ဂီယာကြိတ်ပြီးနောက် ခြေရာခံအစိတ်အပိုင်းများ၏ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာနှင့် ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ အချက်အလက်များနှင့် shot peening လုပ်ငန်းစဉ်အချက်အလက်အတွက် ဇယား ၅ ကိုကြည့်ပါ။ shot peening မလုပ်မီ ရှေ့နှင့်နောက်သွားမျက်နှာပြင်များ၏ ကြမ်းတမ်းမှုနှင့် ချဲ့ထွင်မှုဒေတာများကို ပုံ ၄ တွင် ပြသထားသည်။ ပုံ ၄ တွင် shot peening မလုပ်မီ သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုအပိုင်းအခြားမှာ Rz1.6 μ m-Rz4.3 μ m ဖြစ်ကြောင်း ပြသထားသည်။ shot peening ပြုလုပ်ပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုတိုးလာပြီး ဖြန့်ဖြူးမှုအပိုင်းအခြားမှာ Rz2.3 μ m-Rz6.7 μ m ဖြစ်ကြောင်း ပြသထားသည်။ shot peening မလုပ်မီ အများဆုံးကြမ်းတမ်းမှုကို ၃.၁ ဆအထိ ချဲ့နိုင်သည်။

ဓားဖြင့် ခြစ်ထုတ်ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင် ကြမ်းတမ်းမှုအပေါ် သက်ရောက်မှုရှိသော အချက်များ

shot peening ၏ မူအရ မာကျောမှုမြင့်မားပြီး မြန်နှုန်းမြင့် ရွေ့လျားနေသော shot သည် အစိတ်အပိုင်းမျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် မရေမတွက်နိုင်သော အပေါက်များစွာကို ချန်ထားခဲ့ပြီး ၎င်းသည် ကျန်ရှိနေသော ဖိသိပ်ဖိအား၏ အရင်းအမြစ်ဖြစ်ကြောင်း မြင်တွေ့နိုင်သည်။ တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ ဤအပေါက်များသည် မျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုကို တိုးမြင့်စေပါသည်။ shot peening မတိုင်မီ အစိတ်အပိုင်းများ၏ ဝိသေသလက္ခဏာများနှင့် shot peening လုပ်ငန်းစဉ် ကန့်သတ်ချက်များသည် ဇယား ၆ တွင် ဖော်ပြထားသည့်အတိုင်း shot peening ပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုကို သက်ရောက်မှုရှိလိမ့်မည်။ ဤစာတမ်း၏ အပိုင်း ၃ တွင်၊ လုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေလေးခုအောက်တွင်၊ shot peening ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုသည် မတူညီသောအတိုင်းအတာအထိ တိုးလာသည်။ ဤစမ်းသပ်မှုတွင်၊ ပြောင်းလဲမှုမတိုင်မီ ကြမ်းတမ်းမှုနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် ကန့်သတ်ချက်များ (saturation strength သို့မဟုတ် coverage) ဟူ၍ ကိန်းရှင်နှစ်ခုရှိပြီး၊ ၎င်းတို့သည် shot peening ပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုနှင့် လွှမ်းမိုးသောအချက်တစ်ခုစီအကြား ဆက်နွယ်မှုကို တိကျစွာ မဆုံးဖြတ်နိုင်ပါ။ လက်ရှိတွင်၊ ပညာရှင်အများအပြားသည် ဤကိစ္စနှင့်ပတ်သက်၍ သုတေသနပြုလုပ်ခဲ့ပြီး finite element simulation ကိုအခြေခံ၍ shot peening ပြီးနောက် မျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု၏ သီအိုရီဆိုင်ရာ ခန့်မှန်းချက်ပုံစံတစ်ခုကို တင်ပြခဲ့ပြီး၊ ၎င်းကို shot peening လုပ်ငန်းစဉ်အမျိုးမျိုး၏ သက်ဆိုင်ရာ ကြမ်းတမ်းမှုတန်ဖိုးများကို ခန့်မှန်းရန် အသုံးပြုသည်။

တကယ့်အတွေ့အကြုံနှင့် အခြားပညာရှင်များ၏ သုတေသနပြုချက်များအပေါ် အခြေခံ၍ အချက်အမျိုးမျိုး၏ လွှမ်းမိုးမှုပုံစံများကို ဇယား ၆ တွင်ပြထားသည့်အတိုင်း ခန့်မှန်းနိုင်ပါသည်။ shot peening ပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုသည် အချက်များစွာကြောင့် အပြည့်အဝသက်ရောက်မှုရှိကြောင်း တွေ့ရှိနိုင်ပြီး ၎င်းတို့သည် ကျန်ရှိနေသော ဖိသိပ်ဖိအားကို ထိခိုက်စေသော အဓိကအချက်များလည်းဖြစ်သည်။ ကျန်ရှိနေသော ဖိသိပ်ဖိအားကို သေချာစေရန် အခြေခံအားဖြင့် shot peening ပြီးနောက် ကြမ်းတမ်းမှုကို လျှော့ချရန်အတွက်၊ parameter ပေါင်းစပ်မှုကို အဆက်မပြတ် အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်ရန်အတွက် လုပ်ငန်းစဉ်စမ်းသပ်မှုများစွာ လိုအပ်ပါသည်။

စနစ်၏ NVH စွမ်းဆောင်ရည်အပေါ် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု၏ သြဇာလွှမ်းမိုးမှု

ဂီယာအစိတ်အပိုင်းများသည် ဒိုင်းနမစ်ဂီယာစနစ်တွင်ရှိပြီး သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုသည် ၎င်းတို့၏ NVH စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိခိုက်စေမည်ဖြစ်သည်။ စမ်းသပ်မှုရလဒ်များအရ ဝန်နှင့်အမြန်နှုန်းတူညီသောအခါ မျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုပိုများလေ၊ စနစ်၏တုန်ခါမှုနှင့်ဆူညံသံများ ပိုများလေဖြစ်ကြောင်း ပြသသည်။ ဝန်နှင့်အမြန်နှုန်းတိုးလာသောအခါ တုန်ခါမှုနှင့်ဆူညံသံသည် ပိုမိုသိသာထင်ရှားလာသည်။

မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း စွမ်းအင်လျှော့ချစက်အသစ်များ၏ စီမံကိန်းများသည် အလျင်အမြန်တိုးတက်လာပြီး မြန်နှုန်းမြင့်နှင့် torque ကြီးမားသော ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုလမ်းကြောင်းကို ပြသနေပါသည်။ လက်ရှိတွင် ကျွန်ုပ်တို့၏ စွမ်းအင်လျှော့ချစက်အသစ်၏ အမြင့်ဆုံး torque မှာ 354N · m ဖြစ်ပြီး အမြင့်ဆုံးအမြန်နှုန်းမှာ 16000r/min ဖြစ်ပြီး အနာဂတ်တွင် 20000r/min ထက်ပို၍ တိုးမြှင့်သွားမည်ဖြစ်သည်။ ထိုကဲ့သို့သော အလုပ်လုပ်သည့်အခြေအနေများတွင် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုတိုးလာခြင်း၏ စနစ်၏ NVH စွမ်းဆောင်ရည်အပေါ် သက်ရောက်မှုကို ထည့်သွင်းစဉ်းစားရပါမည်။

ပစ်ခတ်ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုအတွက် တိုးတက်မှုအစီအမံများ

ဂီယာကြိတ်ပြီးနောက် shot peening လုပ်ငန်းစဉ်သည် ဂီယာသွားမျက်နှာပြင်၏ contact fatigue strength နှင့် သွားအမြစ်၏ bending fatigue strength ကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေနိုင်သည်။ ဂီယာဒီဇိုင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် strength အကြောင်းများကြောင့် ဤလုပ်ငန်းစဉ်ကို အသုံးပြုရမည်ဆိုပါက စနစ်၏ NVH စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထည့်သွင်းစဉ်းစားရန်အတွက် shot peening ပြီးနောက် ဂီယာသွားမျက်နှာပြင်၏ roughness ကို အောက်ပါရှုထောင့်များမှ တိုးတက်ကောင်းမွန်စေနိုင်သည်။

(က) shot peening လုပ်ငန်းစဉ် parameters များကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ပြီး ကျန်ရှိနေသော compressive stress ကိုသေချာစေရန် အခြေခံ၍ shot peening ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု မြင့်တက်လာမှုကို ထိန်းချုပ်ပါ။ ၎င်းသည် လုပ်ငန်းစဉ်စမ်းသပ်မှုများစွာ လိုအပ်ပြီး လုပ်ငန်းစဉ်၏ ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိမှုမှာ အားကောင်းခြင်း မရှိပါ။

(ခ) ပေါင်းစပ် shot peening လုပ်ငန်းစဉ်ကို လက်ခံကျင့်သုံးပြီး၊ ဆိုလိုသည်မှာ ပုံမှန်အစွမ်းသတ္တိရှိသော shot peening ပြီးစီးသွားပြီးနောက် နောက်ထပ် shot peening တစ်ခု ထပ်ထည့်ပါသည်။ တိုးလာသော shot peening လုပ်ငန်းစဉ်အစွမ်းသတ္တိသည် များသောအားဖြင့် နည်းပါးလေ့ရှိသည်။ ကြွေထည် shot၊ ဖန် shot သို့မဟုတ် သံမဏိဝါယာကြိုးဖြတ်တောက် shot ကဲ့သို့သော shot ပစ္စည်းအမျိုးအစားနှင့် အရွယ်အစားကို ချိန်ညှိနိုင်သည်။

ဂ။ shot peening ပြီးနောက်၊ သွားမျက်နှာပြင်ကို ඔප දැමීමနှင့် free honing ကဲ့သို့သော လုပ်ငန်းစဉ်များကို ထည့်သွင်းထားသည်။

ဤစာတမ်းတွင်၊ သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုနှင့် သွားကြိတ်ခြင်းမပြုမီနှင့် ပြုလုပ်ပြီးနောက် မတူညီသော အစိတ်အပိုင်းများ၏ အခြေအနေများကို လေ့လာထားပြီး၊ အောက်ပါနိဂုံးချုပ်ချက်များကို စာပေများအပေါ် အခြေခံ၍ ရေးဆွဲထားပါသည်။

◆ Shot peening သည် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုကို တိုးစေပြီး shot peening မတိုင်မီ အစိတ်အပိုင်းများ၏ ဝိသေသလက္ခဏာများ၊ shot peening လုပ်ငန်းစဉ် ကန့်သတ်ချက်များနှင့် အခြားအချက်များကြောင့် သက်ရောက်မှုရှိပြီး ဤအချက်များသည် ကျန်ရှိနေသော ဖိသိပ်ဖိအားကို သက်ရောက်မှုရှိသော အဓိကအချက်များလည်း ဖြစ်သည်။

◆ လက်ရှိ အသုတ်လိုက် ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ် အခြေအနေများအရ၊ shot peening လုပ်ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင် အမြင့်ဆုံး ကြမ်းတမ်းမှုသည် shot peening မလုပ်မီထက် ၃.၁ ဆ ပိုများသည်။

◆ သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုတိုးလာခြင်းက စနစ်၏တုန်ခါမှုနှင့်ဆူညံသံကို တိုးစေပါသည်။ torque နှင့် မြန်နှုန်းပိုများလေ၊ တုန်ခါမှုနှင့်ဆူညံသံတိုးလာမှု ပိုမိုသိသာထင်ရှားလေဖြစ်သည်။

◆ shot peening ပြီးနောက် သွားမျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုကို shot peening လုပ်ငန်းစဉ် parameters များ၊ composite shot peening၊ shot peening ပြီးနောက် polishing သို့မဟုတ် free honing ထည့်ခြင်း စသည်တို့ဖြင့် တိုးတက်ကောင်းမွန်အောင် ပြုလုပ်နိုင်ပါသည်။ shot peening လုပ်ငန်းစဉ် parameters များကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် ပြုလုပ်ခြင်းဖြင့် ကြမ်းတမ်းမှု တိုးပွားလာမှုကို 1.5 ဆခန့် ထိန်းချုပ်နိုင်မည်ဟု မျှော်လင့်ရသည်။